圣戈班精密抛磨专为GaN晶片化学机械研磨（CMP）抛光工艺优化设计的圣戈班GaiN 200是一种可将整个加工时间减少一半以上且正在申请专利的纳米磨料抛光液。凭借我们丰富的材料平台和配方专业知识，圣戈班针对GaN晶片抛光应用设计了一种可将高材料去除率（MRR）与优异表面光洁度结合一体的抛光液。通过原子力显微镜（AFM）测量结果，圣戈班GaiN CMP抛光液可将表面粗糙度降低到2埃以内，从而消除晶片整个表面上的划痕和点蚀。GaiN 200可在2英寸和4英寸GaN晶片上获得即开即用(Epi-ready)的表面品质。GaiN200 CMP浆料具有比竞争产品快四倍且亚表面损伤更少的卓越材料去除率。更多信息方问：https://www.surfaceconditioning.saint-gobain.com/products/gain-cmp-slurry